一种高强高导钛青铜极薄带及其制备方法
- 申请专利号:CN202310257234.3
- 公开(公告)日:2025-02-25
- 公开(公告)号:CN116121584A
- 申请人:云南红塔特铜新材料股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116121584 A (43)申请公布日 2023.05.16 (21)申请号 202310257234.3 B23P 15/00 (2006.01) (22)申请日 2023.03.16 (71)申请人 云南红塔特铜新材料股份有限公司 地址 653100 云南省玉溪市红塔区春和街 道红塔工业园区观音山片区内 (72)发明人 汤德林 张文芹 唐云波 胡园园 郑晨飞 戴韵 普娟 (74)专利代理机构 重庆智诚达邦专利代理事务 所(普通合伙) 50289 专利代理师 贺春林 (51)Int.Cl. C22C 9/00 (2006.01) C22C 1/02 (2006.01) C22F 1/08 (2006.01) C21D 9/46 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 一种高强高导钛青铜极薄带及其制备方法 (57)摘要 本发明提供了一种高强高导钛青铜极薄带 及其制备工艺,属于高强高导铜合金的相关技术 领域,该高强高导钛青铜极薄带的质量百分比组 成为:Ti :1.8~5.1%,Si的含量小于0 .0019%, 余量为Cu和不可避免的杂质。该制备方法依次包 括熔铸、均匀化退火、热轧、固溶处理、铣面、多次 轧制处理及后处理。本发明经时效处理析出大量 均匀分布的第二相粒子,能够阻止位错
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