基板处理装置及基板处理方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113262951 A (43)申请公布日 2021.08.17 (21)申请号 202110153809.8 H01L 21/67 (2006.01) (22)申请日 2021.02.04 (30)优先权数据 2020-023084 2020.02.14 JP (71)申请人 株式会社斯库林集团 地址 日本京都府京都市上京区堀川通寺之 内上4丁目天神北町1番地之1 (72)发明人 上野幸一　 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理 有限公司 11205 代理人 杨贝贝　臧建明 (51)Int.Cl. B05C 13/02 (2006.01) B05C 5/02 (2006.01) H01L 21/683 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图4页 (54)发明名称 基板处理装置及基板处理方法 (57)摘要 本发明的问题在于在载台上表面以高吸附 力保持矩形状基板并稳定进行处理液的涂布。本 发明包括：载台，在上表面具有能供矩形状基板 载置的基板载置区域；喷嘴，具有喷出处理液的 狭缝状喷出口；喷嘴移动部，使喷嘴在载台上方 移动；第一负压产生部，自在基板载置区域的中 央部由载置于载台的基板的下表面与载台夹持 的空间排出第一气体而产生第一负压；凹部，以 在自上方俯视时包围空间的方式设置于基板载 置区域的周缘