光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113391515 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110243881.X (22)申请日 2021.03.05 (30)优先权数据 2020-042741 2020.03.12 JP (71)申请人 HOYA株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 田边胜　浅川敬司　安森顺一　 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 王利波 (51)Int.Cl. G03F 1/26 (2012.01) G03F 1/80 (2012.01) 权利要求书2页 说明书19页 附图3页 (54)发明名称 光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩 模的制造方法及显示装置的制造方法 (57)摘要 本发明提供一种光掩模坯料，其在通过对图 案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时 能够缩短过蚀刻时间，可以形成具有良好的截面 形状、满足图案形成用薄膜或转印图案中所要求 的耐清洗性、且满足要求的线边缘粗糙度的转印 图案。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形 成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模 的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行 湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形 成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具 有柱状结构、且包含上层及下层，构成上层中的 A 柱状结构的粒子的平均尺寸小于构成下层中的 5 柱状结构的粒子的平均尺寸。 1 5 1