基于最优去除函数选择的磁流变抛光加工方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118081494 A (43)申请公布日 2024.05.28 (21)申请号 202410519957.0 G06F 17/10 (2006.01) G06F 16/90 (2019.01) (22)申请日 2024.04.28 (71)申请人 中国科学院长春光学精密机械与物 理研究所 地址 130033 吉林省长春市经济技术开发 区东南湖大路3888号 (72)发明人 李龙响　程润木　薛栋林　李兴昶　 罗霄　张学军　 (74)专利代理机构 长春中科长光知识产权代理 事务所(普通合伙) 22218 专利代理师 高一明 (51)Int.Cl. B24B 1/00 (2006.01) B24B 13/00 (2006.01) B24B 41/06 (2012.01) 权利要求书3页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 基于最优去除函数选择的磁流变抛光加工 方法 (57)摘要 本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一 种基于最优去除函数选择的磁流变抛光加工方 法，通过在测试加工过程中控制抛光间隙的变 化，以及磁流变抛光模块提供的磁流变液的流量 的变化，收集抛光间隙和流量的变化下的去除函 数及其体积去除率，并建立变化规律数据库，用 于正式加工过程中设定理