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PCT发明

赋形薄膜、以及具备赋形薄膜的光学层叠体

2023-05-12 11:50:49 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080074305.0
  • 公开（公告）日：2024-10-29
  • 公开（公告）号：CN114585952A
  • 申请人：日东电工株式会社
摘要：提供一种赋形薄膜，其在与其他薄膜组合而构成光学层叠体时能够表现出优异的亮度和亮度视场角，能够有助于该光学层叠体的耐久性(特别是加湿耐久性)，且加工性优异。本发明的赋形薄膜具备基材部、以及形成于该基材部的一面的凹凸部，该凹凸部具有凸部和凹部，所述凹部具有被该凸部包围而形成的单元格结构，该凸部的高度相对于赋形薄膜的厚度为5％～40％，具有该单元格结构的凹部的平均面积为5000μm2以上，在自该赋形薄膜的端边起500μm以内的区域中存在该凸部的壁面。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114585952 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202080074305.0 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 (22)申请日 2020.10.14 专利代理师 刘新宇　李茂家 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2019-193801 2019.10.24 JP G02B 5/02 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.04.22 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/038793 2020.10.14 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/079803 JA 2021.04.29 (71)申请人 日东电工株式会社 地址 日本大阪府 (72)发明人 吉川贵博　三田聪司　池田哲朗　 权利要求书1页 说明书13页 附图2页 (54)发明名称 赋形薄膜、以及具备赋形薄膜的光学层叠体 (57)摘要 提供一种赋形薄膜，其在与其他薄膜

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