一种制备周期性弧状三角形纳米孔阵列的方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117509536 A (43)申请公布日 2024.02.06 (21)申请号 202311437352.9 (22)申请日 2023.10.31 (71)申请人 杭州邦齐州科技有限公司 地址 311400 浙江省杭州市富阳区春江街 道江南路68号第23幢910室 (72)发明人 宋璐涛　张一超　张晓旭　 (74)专利代理机构 杭州五洲普华专利代理事务 所(特殊普通合伙) 33260 专利代理师 周炤隆 (51)Int.Cl. B82B 3/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) G02B 5/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 (54)发明名称 一种制备周期性弧状三角形纳米孔阵列的 方法 (57)摘要 本发明涉及光电材料领域，特别涉及一种制 备周期性弧状三角形纳米孔阵列的方法。包括在 第一载片表面形成微球单层膜，微球单层膜中的 微球之间的弧状三角形结构作为后续刻蚀第一 载片时的具有图形信息的掩膜版，将第一载片进 行刻蚀，将微球单层膜的图形信息转移到第一载 片，最终获得具有周期性弧状三角形纳米孔阵列 的载片。相较于传统的光刻技术，避免了光刻工 艺中掩模版、光刻胶、显影液的使用，且执行和操 作也非常简单，只需一步刻蚀即可获得周期性弧 状三角形纳米孔阵列的载片，大幅度地降低弧状 A 三角形纳米孔阵列制备的时间和成本，且在制备 6 的过程中几乎