一种掩膜版及光学临近修正的方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112965335 A (43)申请公布日 2021.06.15 (21)申请号 202110215006.0 (22)申请日 2021.02.25 (71)申请人 合肥维信诺科技有限公司 地址 230000 安徽省合肥市新站区魏武路 与新蚌埠路交口西南角 (72)发明人 林楠　王中来　胡韬　刘兴华　 (74)专利代理机构 北京远智汇知识产权代理有 限公司 11659 代理人 范坤坤 (51)Int.Cl. G03F 1/36 (2012.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图14页 (54)发明名称 一种掩膜版及光学临近修正的方法 (57)摘要 本发明实施例公开了一种掩膜版及光学临 近修正的方法。其中，掩膜版包括至少一个图形 对应区，其中，任一图形对应区包括主区和位于 主区周围的至少一个光学临近失真补偿区，主区 的透光率、与图形对应区邻接的外围区域的透光 率和光学临近失真补偿区的透光率不相等，主区 的透光率大于与图形对应区邻接的外围区域的 透光率和光学临近失真补偿区的透光率中的较 小值，主区的透光率小于与图形对应区邻接的外 围区域的透光率和光学临近失真补偿区的透光 率中的较大值。本发明实施例提供的技术方案可 以高效快速实现补偿失真的曝光图形，且成本 A 低。 5 3 3 5 6 9 2 1 1 N C CN 112965335 A 权　利　要　求　书