发明

一种晶圆上下料的系统、方法及计算机存储介质2026

2024-06-01 08:10:11 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202410523631.5
  • 公开(公告)日:2026-09-08
  • 公开(公告)号:CN118081611A
  • 申请人:西安奕斯伟材料科技股份有限公司|||西安欣芯材料科技有限公司
摘要:本公开提供了一种晶圆上下料的系统、方法及计算机存储介质。该系统包括:设置于研磨设备上料口处的上料中转缓存机构、用于存放经研磨设备研磨后的晶圆且装盛有去离子水的下料水槽缓存机构、上料机械臂以及下料机械臂;其中,上料机械臂,被配置成从上料中转缓存机构将待研磨晶圆转移至研磨设备的载盘;下料机械臂,被配置成在上料机械臂从上料中转缓存机构将待研磨晶圆转移至研磨设备的载盘的过程中,同步将研磨设备中研磨后的晶圆从研磨设备的载盘转移至下料水槽缓存机构。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118081611 A (43)申请公布日 2024.05.28 (21)申请号 202410523631.5 (22)申请日 2024.04.28 (71)申请人 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 地址 710065 陕西省西安市高新区西沣南 路1888号1-3-029室 申请人 西安欣芯材料科技有限公司 (72)发明人 魏洋  (74)专利代理机构 西安维英格知识产权代理事 务所(普通合伙) 61253 专利代理师 沈寒酉 李斌栋 (51)Int.Cl. B24B 37/34 (2012.01) B24B 37/04 (2012.01) 权利要求书3页 说明书9页 附图7页 (54)发明名称 一种晶圆上下料的系统、方法及计算机存储 介质 (57)摘要 本公开提供了一种晶圆上下料的系统、方法 及计算机存储介质。该系统包括:设置于研磨设 备上料口处的上料中转缓存机构、用于存放经研 磨设备研磨后的晶圆且装盛有去离子水的下料 水槽缓存机构、上料机械臂以及下料机械臂;其 中,上料机械臂,被配置成从上料中转缓存机构 将待研磨晶圆转移至研磨设备的载盘;下料机械 臂,被配置成在上料机械臂从上料中转缓存机构 将待研磨晶圆转移至研磨设备的载盘的过程中, 同步将研磨设备中研磨后的晶圆从研磨设备的 载盘转移至下料水槽缓存机构。 A 1 1 6 1 8 0 8 1 1 N C CN 118

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