基于面阵CCD传感器自参考的反射率测量的装置和方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117805070 A (43)申请公布日 2024.04.02 (21)申请号 202311783569.5 (22)申请日 2023.12.22 (71)申请人 武汉颐思谱科技有限公司 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开 发区金融港四路10号中原民品园9号 楼402室 (72)发明人 郭春付　李伟奇　张传维　 (74)专利代理机构 武汉惠创知识产权代理事务 所(普通合伙) 42243 专利代理师 童思明 (51)Int.Cl. G01N 21/55 (2014.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图4页 (54)发明名称 基于面阵CCD传感器自参考的反射率测量的 装置和方法 (57)摘要 本发明提供了一种基于面阵CCD传感器自参 考的反射率测量的装置和方法，属于光学测量领 域。由于光源的不稳定性，在进行反射率测量时， 随着环境和温度的变化，光源的光强会出现波 动，从而带来传统的反射率设备测量的反射率的 波动，进而影响到最终的测量结果。本发明将从 光源出来的光分为两路，一路传输到面阵CCD传 感器的上部或下部，作为参考光强，另一路传输 到样品表面，再将反射回的光传输到面阵CCD传 感器的另一部分，作为测量光强，通过参考光强 的波动修正到测量光强中，将光源的不稳定性在 A 反射率测量过程中的影响实时消除掉，这样既保 0 证了波长的一致性，也保证了信噪比的一致性， 7 0 5 从而保证测量