发明

硅纳米球探针制造高性能纳米线器件和界面提升方法2023

2023-10-22 07:27:22 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310608577.X
  • 公开(公告)日:2023-10-20
  • 公开(公告)号:CN116902910A
  • 申请人:浙江大学
摘要:本发明公开了硅纳米球探针制造高性能纳米线器件和界面提升方法,包括转移二维材料;对二维材料进行热退火,原子力显微镜接触模式扫描等;转移一维材料纳米线;原子力显微镜非接触模式定位纳米线位置;原子力显微镜控制模式旋转移动纳米线,使纳米线和二维材料特定区域接触;原子力显微镜力曲线模式依次扫描纳米线/二维材料接触区域;同时,该纳米球探针通过聚焦离子束仪器的高能氦离子束注入单晶硅表面,通过调节氦离子的注入电压、开关阀门的开启时间定量调控注入的离子剂量;本发明不会引入额外的污染物,并且可以定点、快速、精准处理材料表面,具有在纳米尺度的高度的可行性和可控性,对材料表面的损伤小,可以兼容于不同的器件制备工艺。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116902910 A (43)申请公布日 2023.10.20 (21)申请号 202310608577.X (22)申请日 2023.05.27 (71)申请人 浙江大学 地址 310012 浙江省杭州市西湖区余杭塘 路866号 (72)发明人 胡欢 潘鑫 丁小蕾 乔宝石  徐杨  (74)专利代理机构 河南博恒知识产权代理事务 所(普通合伙) 41219 专利代理师 曹玉清 (51)Int.Cl. B82B 3/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 硅纳米球探针制造高性能纳米线器件和界 面提升方法 (57)摘要 本发明公开了硅纳米球探针制造高性能纳 米线器件和界面提升方法,包括转移二维材料 ; 对二维材料进行热退火,原子力显微镜接触模式 扫描等;转移一维材料纳米线;原子力显微镜非 接触模式定位纳米线位置;原子力显微镜控制模 式旋转移动纳米线,使纳米线和二维材料特定区 域接触;原子力显微镜力曲线模式依次扫描纳米 线/二维材料接触区域;同时,该纳米球探针通过 聚焦离子束仪器的高能氦离子束注入单晶硅表 面,通过调节氦离子的注入电压、开关阀门的开 启时间定量调控注入的离子剂量;本发明不会引 A 入额外的污染物,并且可以定点、快速、精准处理 0 材料表面,具有在纳米尺度的高度的可行性和可 1 9

最新专利