一种双面印刷超低透光聚酯基膜及其制备方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117818186 A (43)申请公布日 2024.04.05 (21)申请号 202410161705.5 B29C 41/24 (2006.01) B29C 41/32 (2006.01) (22)申请日 2024.02.05 (71)申请人 宁波勤邦新材料科技股份有限公司 地址 315700 浙江省宁波市象山县经济开 发区城南高新创业园官河路9号 (72)发明人 刘勤学　夏寅　范家华　罗丹　 (74)专利代理机构 宁波甬心合创知识产权代理 有限公司 33552 专利代理师 糜婧 (51)Int.Cl. B32B 27/36 (2006.01) B32B 27/20 (2006.01) B32B 27/18 (2006.01) B32B 27/06 (2006.01) B32B 33/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 (54)发明名称 一种双面印刷超低透光聚酯基膜及其制备 方法 (57)摘要 本发明涉及聚酯基膜制造领域，尤其涉及一 种双面印刷超低透光聚酯基膜及其制备方法，该 膜由三层复合物构成，其中间层为灰色吸光支撑 层，所述灰色吸光支撑层两侧为厚度相同的超白 表层。本发明通过不同的结构构型形成多层的光 阻隔体系，降低光的透过效果，同时保证膜的使