锗镓发生器和锗镓发生系统2023
- 申请专利号:CN202321707761.1
- 公开(公告)日:2023-11-21
- 公开(公告)号:CN220065197U
- 申请人:中子高新技术产业发展(重庆)有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220065197 U (45)授权公告日 2023.11.21 (21)申请号 202321707761.1 (22)申请日 2023.06.30 (73)专利权人 中子高新技术产业发展(重庆)有 限公司 地址 401331 重庆市沙坪坝区重庆市高新 区虎溪街道大学城中路临25号1058 (72)发明人 请求不公布姓名 (51)Int.Cl. G21G 7/00 (2009.01) A61N 5/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)实用新型名称 锗镓发生器和锗镓发生系统 (57)摘要 本实用新型涉及医疗器具技术领域并公开 一种锗镓发生器和锗镓发生系统,所述锗镓发生 器包括填料桶和回流管,所述填料桶具有容纳 68Ge吸附剂的吸附腔,所述回流管具有进液口和 出液口,所述进液口和所述出液口分别与所述吸 68 附腔连通,Ga洗脱液可以通过所述回流管再次 68 回流至所述吸附腔,以增加所述 Ga洗脱液中 68 68 由 Ge衰变而成的 Ga的浓度。本实用新型中的 68 锗镓发生器可以利用回流管,让 Ga洗脱液进行 68 循环流动,即,Ga洗脱液可以通过回流管多次
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