实用新型

锗镓发生器和锗镓发生系统2023

2023-11-24 07:46:16 发布于四川 5
  • 申请专利号:CN202321707761.1
  • 公开(公告)日:2023-11-21
  • 公开(公告)号:CN220065197U
  • 申请人:中子高新技术产业发展(重庆)有限公司
摘要:本实用新型涉及医疗器具技术领域并公开一种锗镓发生器和锗镓发生系统,所述锗镓发生器包括填料桶和回流管,所述填料桶具有容纳68Ge吸附剂的吸附腔,所述回流管具有进液口和出液口,所述进液口和所述出液口分别与所述吸附腔连通,68Ga洗脱液可以通过所述回流管再次回流至所述吸附腔,以增加所述68Ga洗脱液中由68Ge衰变而成的68Ga的浓度。本实用新型中的锗镓发生器可以利用回流管,让68Ga洗脱液进行循环流动,即,68Ga洗脱液可以通过回流管多次回流至吸附腔中,从而68Ga洗脱液可以多次对吸附腔中的68Ga进行洗脱,进一步提高68Ga洗脱液中的68Ga的浓度。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220065197 U (45)授权公告日 2023.11.21 (21)申请号 202321707761.1 (22)申请日 2023.06.30 (73)专利权人 中子高新技术产业发展(重庆)有 限公司 地址 401331 重庆市沙坪坝区重庆市高新 区虎溪街道大学城中路临25号1058 (72)发明人 请求不公布姓名  (51)Int.Cl. G21G 7/00 (2009.01) A61N 5/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)实用新型名称 锗镓发生器和锗镓发生系统 (57)摘要 本实用新型涉及医疗器具技术领域并公开 一种锗镓发生器和锗镓发生系统,所述锗镓发生 器包括填料桶和回流管,所述填料桶具有容纳 68Ge吸附剂的吸附腔,所述回流管具有进液口和 出液口,所述进液口和所述出液口分别与所述吸 68 附腔连通,Ga洗脱液可以通过所述回流管再次 68 回流至所述吸附腔,以增加所述 Ga洗脱液中 68 68 由 Ge衰变而成的 Ga的浓度。本实用新型中的 68 锗镓发生器可以利用回流管,让 Ga洗脱液进行 68 循环流动,即,Ga洗脱液可以通过回流管多次

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