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一种自定义金属微纳米片的制备方法

2023-06-15 07:18:05 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202110269495.8
  • 公开(公告)日:2024-06-18
  • 公开(公告)号:CN113148945A
  • 申请人:西湖大学
摘要:本发明公开了一种自定义金属微纳米片的制备方法,清洗衬底之后旋涂有机胶材料,通过微纳加工技术设计结构、制备掩模,蒸镀金属,去除有机胶材料,在金属结构和衬底之间形成间隙层,利用锥形探针转移金属结构。通过微纳加工技术制备所得金属结构,操作简便,对所需结构的可控性、可重复性高,制备所得的结构具有原子级平整的低粗糙度表面,避免附带杂质,洁净度极高。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113148945 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 202110269495.8 (22)申请日 2021.03.12 (71)申请人 西湖大学 地址 310024 浙江省杭州市西湖区转塘街 道石龙山街18号 (72)发明人 吕未 唐伟伟 仇旻 张磊 严巍  贾倩楠  (74)专利代理机构 杭州知闲专利代理事务所 (特殊普通合伙) 33315 代理人 黄燕 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图4页 (54)发明名称 一种自定义金属微纳米片的制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种自定义金属微纳米片的 制备方法,清洗衬底之后旋涂有机胶材料,通过 微纳加工技术设计结构、制备掩模,蒸镀金属,去 除有机胶材料,在金属结构和衬底之间形成间隙 层,利用锥形探针转移金属结构。通过微纳加工 技术制备所得金属结构,操作简便,对所需结构 的可控性、可重复性高,制备所得的结构具有原 子级平整的低粗糙度表面,避免附带杂质,洁净 度极高。 A 5 4 9 8 4 1 3 1 1 N C CN 113148945 A 权 利 要 求 书 1/1页 1.一种自定义

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