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发明

一种宽范围光谱可调节器件的膜系结构及其制备方法2024

2023-12-17 07:14:48 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202311137378.1
  • 公开（公告）日：2024-10-22
  • 公开（公告）号：CN117192858A
  • 申请人：兰州空间技术物理研究所
摘要：本申请涉及表面工程技术领域，具体而言，涉及一种宽范围光谱可调节器件的膜系结构及其制备方法，所述膜系结构从下到上依次包括基底、底电极层、离子储存层、电解质层、电致变色层以及顶电极层，其中：基底材料为聚酰亚胺、聚酯、聚全氟乙丙烯、石英玻璃或掺铈玻璃；底电极层电极的材料为ITO；离子储存层的材料为镍的氧化物；电解质层的材料为LiTaO3、LiPO4或者LiNbO3；电致变色层的材料为WO3；顶电极层电极的材料为Al、Ag或者ITO，整体结构为栅格化结构。本申请的可调节器件通过顶层电极结构栅格化，能够控制图案形状和尺寸，可以保证95％的面积没有被电极覆盖，获得较好的可见光和红外波段透过性，从而实现器件在宽范围光谱段的优良的调节性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117192858 A (43)申请公布日 2023.12.08 (21)申请号 202311137378.1 G02F 1/1506 (2019.01) C23C 14/02 (2006.01) (22)申请日 2023.09.05 C23C 14/35 (2006.01) (71)申请人 兰州空间技术物理研究所 C23C 14/08 (2006.01) 地址 730010 甘肃省兰州市城关区飞雁街 C23C 14/58 (2006.01) 100号 (72)发明人 周超　何延春　王虎　李坤　 王兰喜　吴春华　王艺　李学磊　 杨淼　王志民　赵印中　 (74)专利代理机构 北京元理果知识产权代理事 务所(普通合伙) 11938 专利代理师 饶小平 (51)Int.Cl. G02F 1/155 (2006.01) G02F 1/153 (2006.01) G02F 1/1524 (2019.01) 权利要求书2页 说明书4页 附图

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