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PCT发明

确定图案的像差灵敏度的方法

2023-05-06 09:52:02 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202080062062.9
  • 公开（公告）日：2025-04-11
  • 公开（公告）号：CN114341742A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：本文描述一种用于基于与图案形成设备相关联的像差灵敏度来确定过程窗口限制图案(PWLP)的方法(300)。所述方法包括：P(301)获得(i)与所述图案形成设备的像差波前相关联的第一核集合(301)和第二核集合(302)，和(ii)待经由所述图案形成设备而被印制于衬底上的设计布局(303)；和经由使用所述设计布局、所述第一核集合、和所述第二核集合的过程模拟，确定P(303)与所述像差波前相关联的像差灵敏度映射，所述像差灵敏度映射指示所述设计布局的一个或更多个部分对于单独像差以及在不同像差之间的交互作用的灵敏程度；以及基于所述像差灵敏度映射，确定P(305)与相较于所述设计布局的其它部分具有相对高灵敏度的所述设计布局相关联的所述PWLP(315)。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114341742 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202080062062.9 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2020.08.21 代理人 王益 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/895,372 2019.09.03 US G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.03.02 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2020/073448 2020.08.21 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/043596 EN 2021.03.11 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 刘晶晶　徐端孚　彭星月　 权利要求书2页 说明书28页 附图16页 (54)发明名称 确定图案的像差灵敏度的方法 (57)摘要 本文描述一种用于基于与图案形成设备相 关联的像差灵

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