化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117908325 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202311342291.8 (22)申请日 2023.10.17 (30)优先权数据 2022-167620 2022.10.19 JP (71)申请人 信越化学工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 福岛将大　畠山润　石桥尚树　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 专利代理师 刘新宇　李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) 权利要求书3页 说明书86页 (54)发明名称 化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法 (57)摘要 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案 形成方法。本发明的课题是提供为高感度且高对 比度、线的LWR及孔洞的CDU经改善、图案形成后 的蚀刻耐性仍优良的化学增幅抗蚀剂组成物，以 及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手 段是一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有：(A)聚合 物，因酸的作用而对碱水溶液的溶解性会增加， 其含有下式(A1)表示的重复单元及下式(B1)表 示的重复单元，且不含因曝光而产生酸的重复单 元，及(B)光酸产生剂，以下式(PAG‑a)或(PAG‑b) 表示，且因KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子 束或极紫外线的作用而产生酸。 A 5 2 3 8 0 9