表面处理装置
- 申请专利号:CN202180054900.2
- 公开(公告)日:2025-04-01
- 公开(公告)号:CN116018430A
- 申请人:ALMEX科技株式会社
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116018430 A (43)申请公布日 2023.04.25 (21)申请号 202180054900.2 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 (22)申请日 2021.09.07 专利代理师 马莹 邓毅 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2020-155212 2020.09.16 JP C25D 21/10 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.03.06 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2021/032786 2021.09.07 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/059554 JA 2022.03.24 (71)申请人 ALMEX科技株式会社 地址 日本栃木县 (72)发明人 石井胜己 权利要求书2页 说明书10页 附图7页 (54)发明名称 表面处理装置 (57)摘要 表面处理装置具有:收纳处理液的处理槽 (100A、100B) ;配置
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