电镀装置及清洗方法
- 申请专利号:CN201911077619.1
- 公开(公告)日:2025-04-11
- 公开(公告)号:CN112779579A
- 申请人:盛美半导体设备(上海)股份有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112779579 A (43)申请公布日 2021.05.11 (21)申请号 201911077619.1 (22)申请日 2019.11.06 (71)申请人 盛美半导体设备(上海)股份有限公 司 地址 201203 上海市浦东新区中国(上海) 自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢 (72)发明人 余齐兴 金一诺 王坚 王晖 (74)专利代理机构 上海光华专利事务所(普通 合伙) 31219 代理人 余明伟 (51)Int.Cl. C25D 7/12(2006.01) B08B 3/02(2006.01) C25D 21/02(2006.01) C25D 21/08(2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图3页 (54)发明名称 电镀装置及清洗方法 (57)摘要 本发明提供一种电镀装置及清洗方法,电镀 装置包括晶圆夹具、储液罐、清洗管、控制阀及喷 嘴;在储液罐中设置与电镀液相接触的清洗管中 间段,通过具有预设温度的电镀液对清洗管中间 段进行加热,以获得加热的清洗液,能有效提高 资源利用率,无需额外添加加热设备,从而可降 低成本、减少设备占地面积;通过喷嘴提供与电 镀液具有相同温度的清洗液,用以清洗晶圆夹具 中的导电触针及密封件,以有效
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