发明

一种半导体基座涂覆工艺2024

2023-09-07 07:23:11 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310649918.8
  • 公开(公告)日:2024-12-27
  • 公开(公告)号:CN116689255A
  • 申请人:合肥玖福半导体技术有限公司
摘要:本发明涉及一种半导体基座涂覆工艺,具体包括以下步骤:步骤一:通过外部的清洁设备和检测设备对半导体基座进行全方位的清理杂质和检测是否合格;步骤二:将若干个检测合格的半导体基座依次倒装在涂覆设备上,进行涂覆操作;步骤三:将涂覆好的半导体从涂覆设备上取下来;涂完有机高温胶后,旋转气缸带动翻转板转动180度,此时翻转板的一端与支撑座接触,同时,位于储料槽内的铁屑将被散热底座上的磁性吸引,使得铁屑嵌设在有机高温胶内的同时还吸附在散热底座的表面,铁屑的一端延伸出有机高温胶,其另一端与散热底座接触,从而增大了散热底座的散热面积,进而提高了散热底座对激光二极管的散热效率。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116689255 A (43)申请公布日 2023.09.05 (21)申请号 202310649918.8 (22)申请日 2023.06.02 (71)申请人 合肥玖福半导体技术有限公司 地址 230000 安徽省合肥市经济技术开发 区云门路158号厂房办公楼 (72)发明人 赵江民  (74)专利代理机构 合肥正则元起专利代理事务 所(普通合伙) 34160 专利代理师 田浩 (51)Int.Cl. B05D 1/28 (2006.01) B05C 1/02 (2006.01) B05C 13/02 (2006.01) B05D 3/04 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种半导体基座涂覆工艺 (57)摘要 本发明涉及一种半导体基座涂覆工艺,具体 包括以下步骤:步骤一:通过外部的清洁设备和 检测设备对半导体基座进行全方位的清理杂质 和检测是否合格;步骤二:将若干个检测合格的 半导体基座依次倒装在涂覆设备上,进行涂覆操 作;步骤三:将涂覆好的半导体从涂覆设备上取 下来;涂完有机高温胶后,旋转气缸带动翻转板 转动180度,此时翻转板的一端与支撑座接触,同 时,位于储料槽内的铁屑将被散热底座上的磁性 吸引,使得铁屑嵌设在有机高温胶内的同时还吸 附在散热底座的表面,铁屑的一端延伸出有机高 温胶,其另一端与散热底座接触,从而增大了散 A 热底座的