发明

一种射频离子推力器电离室内壁面溅射清洗系统及清洗方法2025

2023-11-16 07:17:04 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310886668.X
  • 公开(公告)日:2025-06-06
  • 公开(公告)号:CN117019767A
  • 申请人:北京航空航天大学|||兰州空间技术物理研究所
摘要:本发明提出一种射频离子推力器电离室内壁面溅射清洗系统及清洗方法,系统由气体分配器、电势控制线、射频线圈、电离室、屏栅、加速栅、正直流电压源、射频电源、负直流电压源及导电胶带组成。方法包括:一、射频离子推力器启动,电离室内形成等离子体;二、给屏栅施加正电压,离子被栅极系统引出,推力器进入工作状态;三、当导电薄膜较厚、功率馈入削弱时,关闭正直流电源,推力器无离子引出;四、打开负直流电源,向电势控制线缓慢施加负电压离子撞击电离室内壁面的能量增加;五、电离室内壁面的导电薄膜在离子的轰击下,溅射出粒子,粒子呈中性,在中性粒子流的作用下被排出电离室外,实现电离室内壁面的清洗。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117019767 A (43)申请公布日 2023.11.10 (21)申请号 202310886668.X (22)申请日 2023.07.19 (71)申请人 北京航空航天大学 地址 100191 北京市海淀区学院路37号 申请人 兰州空间技术物理研究所 (72)发明人 王伟宗 董宜承 孔维一 王海波  韩明月 李兴达  (74)专利代理机构 北京慧泉知识产权代理有限 公司 11232 专利代理师 王顺荣 唐爱华 (51)Int.Cl. B08B 7/00 (2006.01) B08B 13/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图7页 (54)发明名称 一种射频离子推力器电离室内壁面溅射清 洗系统及清洗方法 (57)摘要 本发明提出一种射频离子推力器电离室内 壁面溅射清洗系统及清洗方法,系统由气体分配 器、电势控制线、射频线圈、电离室、屏栅、加速 栅、正直流电压源、射频电源、负直流电压源及导 电胶带组成。方法包括 :一、射频离子推力器启 动,电离室内形成等离子体;二、给屏栅施加正电 压,离子被栅极系统引出,推力器进入工作状态; 三、当导电薄膜较厚、功率馈入削弱时,关闭正直 流电源,推力器无离子引出;四、打开负直流电 源,向电势控制线缓慢施加负电压离子撞击电离 室内壁面的能量增加;五、电离室内壁面的导电 A 薄膜在离子的轰击下,溅射出粒子,粒子呈中性, 7 在中性

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