一种射频离子推力器电离室内壁面溅射清洗系统及清洗方法2025
- 申请专利号:CN202310886668.X
- 公开(公告)日:2025-06-06
- 公开(公告)号:CN117019767A
- 申请人:北京航空航天大学|||兰州空间技术物理研究所
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117019767 A (43)申请公布日 2023.11.10 (21)申请号 202310886668.X (22)申请日 2023.07.19 (71)申请人 北京航空航天大学 地址 100191 北京市海淀区学院路37号 申请人 兰州空间技术物理研究所 (72)发明人 王伟宗 董宜承 孔维一 王海波 韩明月 李兴达 (74)专利代理机构 北京慧泉知识产权代理有限 公司 11232 专利代理师 王顺荣 唐爱华 (51)Int.Cl. B08B 7/00 (2006.01) B08B 13/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图7页 (54)发明名称 一种射频离子推力器电离室内壁面溅射清 洗系统及清洗方法 (57)摘要 本发明提出一种射频离子推力器电离室内 壁面溅射清洗系统及清洗方法,系统由气体分配 器、电势控制线、射频线圈、电离室、屏栅、加速 栅、正直流电压源、射频电源、负直流电压源及导 电胶带组成。方法包括 :一、射频离子推力器启 动,电离室内形成等离子体;二、给屏栅施加正电 压,离子被栅极系统引出,推力器进入工作状态; 三、当导电薄膜较厚、功率馈入削弱时,关闭正直 流电源,推力器无离子引出;四、打开负直流电 源,向电势控制线缓慢施加负电压离子撞击电离 室内壁面的能量增加;五、电离室内壁面的导电 A 薄膜在离子的轰击下,溅射出粒子,粒子呈中性, 7 在中性
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