实用新型

一种转印基板及激光转印装置2023

2023-10-01 07:39:35 发布于四川 6
  • 申请专利号:CN202321372844.X
  • 公开(公告)日:2023-09-29
  • 公开(公告)号:CN219769377U
  • 申请人:隆基绿能科技股份有限公司
摘要:本实用新型公开了一种转印基板及激光转印装置,涉及图案转印技术领域。以在转印过程中,当激光光束逐个照射位于相应沟槽内的浆料时,通过遮光层遮挡该激光光束偏斜至相邻沟槽的部分,防止与当前照射的沟槽相邻的其它沟槽产生一定热效应而造成出现转印缺陷,提高所制造结构的良率,进而利于提升所制造结构的工作性能。该转印基板包括:透明转印部和遮光层。透明转印部具有相对的入光面和背光面。并且,透明转印部的背光面一侧设置有沟槽图案。上述遮光层形成在透明转印部的入光面一侧。遮光层内开设有贯穿的透光图案,透光图案在背光面一侧的投影轮廓覆盖沟槽图案的槽口轮廓。所述转印基板应用于激光转印装置中。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219769377 U (45)授权公告日 2023.09.29 (21)申请号 202321372844.X (22)申请日 2023.05.31 (73)专利权人 隆基绿能科技股份有限公司 地址 710199 陕西省西安市长安区航天中 路388号 (72)发明人 黄帅 李广旭 刘德茂  (74)专利代理机构 北京知迪知识产权代理有限 公司 11628 专利代理师 梁佳美 (51)Int.Cl. B41F 16/00 (2006.01) H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/0224 (2006.01) 权利要求书1页 说明书10页 附图2页 (54)实用新型名称 一种转印基板及激光转印装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种转印基板及激光转 印装置,涉及图案转印技术领域。以在转印过程 中,当激光光束逐个照射位于相应沟槽内的浆料 时,通过遮光层遮挡该激光光束偏斜至相邻沟槽 的部分,防止与当前照射的沟槽相邻的其它沟槽 产生一定热效应而造成出现转印缺陷,提高所制 造结构的良率,进而利于提升所制造结构的工作 性能。该转印基板包括:透明转印部和遮光层。透 明转印部具有相对的入光面和背光面。并且,透 明转印部的背光面一侧设置有沟槽图案。上述遮 光层形成在透明转印部的入光面一侧。遮光层内 开设有贯穿的透光图案,透光图案在背光面一侧 U 的投影轮廓覆盖沟槽图案的槽口轮廓。所述转印 7 基

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