一种转印基板及激光转印装置2023
- 申请专利号:CN202321369847.8
- 公开(公告)日:2023-09-29
- 公开(公告)号:CN219769375U
- 申请人:隆基绿能科技股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219769375 U (45)授权公告日 2023.09.29 (21)申请号 202321369847.8 (22)申请日 2023.05.31 (73)专利权人 隆基绿能科技股份有限公司 地址 710199 陕西省西安市长安区航天中 路388号 (72)发明人 黄帅 李广旭 刘德茂 (74)专利代理机构 北京知迪知识产权代理有限 公司 11628 专利代理师 梁佳美 (51)Int.Cl. B41F 16/00 (2006.01) H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/0224 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图2页 (54)实用新型名称 一种转印基板及激光转印装置 (57)摘要 本实用新型公开一种转印基板及激光转印 装置,涉及图案转印技术领域。用于在转印过程 中,当激光光束逐个照射位于相应沟槽内的浆料 时,通过遮光层遮挡该激光光束偏斜至相邻沟槽 的部分,防止与当前照射的沟槽相邻的其它沟槽 产生一定热效应而造成出现转印缺陷,提高所制 造结构的良率,进而利于提升所制造结构的工作 性能。该转印基板包括:透明转印部和遮光层。透 明转印部具有相对的入光面和背光面。透明转印 部的背光面一侧设置有沟槽图案。上述遮光层位 于透明转印部的入光面一侧。遮光层内开设有贯 穿的透光图案,透光图案在背光面一侧的投影轮 U 廓覆盖沟槽图案的槽口轮廓。遮光层为直接成型 5 在
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