发明

一种电子束曝光机、调焦方法及装置

2023-06-05 18:25:53 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202011623770.3
  • 公开(公告)日:2024-04-16
  • 公开(公告)号:CN112731773A
  • 申请人:中国科学院微电子研究所
摘要:本发明公开了一种电子束曝光机、调焦方法及装置,通过增设光学聚焦测试装置,将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内,并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像,然后基于当前曝光单元对应的反射光图像,得到当前曝光单元的位置信息,进而根据该位置信息调整当前曝光单元电子束曝光的焦点位置。这样能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性,有利于减小束斑尺寸,提高电子束曝光的分辨率。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112731773 A (43)申请公布日 2021.04.30 (21)申请号 202011623770.3 (22)申请日 2020.12.31 (71)申请人 中国科学院微电子研究所 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 (72)发明人 贺晓彬 李亭亭 唐波 刘金彪  李俊峰 杨涛  (74)专利代理机构 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人 房德权 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G03F 9/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图2页 (54)发明名称 一种电子束曝光机、调焦方法及装置 (57)摘要 本发明公开了一种电子束曝光机、调焦方法 及装置,通过增设光学聚焦测试装置,将探测光 照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内,并采 集所述当前曝光单元对应的反射光图像,然后基 于当前曝光单元对应的反射光图像,得到当前曝 光单元的位置信息,进而根据该位置信息调整当 前曝光单元电子束曝光的焦点位置。这样能够有 效地提高电子束曝光机的调焦准确性,有利于减 小束斑尺寸,提高电子束曝光的分辨率。 A 3 7 7 1 3 7 2 1 1 N C CN 112731773 A 权 利 要 求 书 1/2页 1.一种电子束曝光机,其特

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