掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法2024

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 109976086 A (43)申请公布日 2019.07.05 (21)申请号 201811451346.8 (22)申请日 2018.11.30 (30)优先权数据 2017-231298 2017.11.30 JP (71)申请人 株式会社阿迪泰克工程 地址 日本东京 (72)发明人 名古屋淳　 (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 徐殿军 (51)Int.Cl. G03F 1/42(2012.01) G03F 7/20(2006.01) G03F 9/00(2006.01) 权利要求书2页 说明书13页 附图4页 (54)发明名称 掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法 (57)摘要 本发明提供掩模对、两面曝光装置及掩模更 换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状 态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校 准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装 置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记 11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有 第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。在 进行掩模(1、2)彼此的校准时，在离开了基板(S) 的位置处将第一辅助掩模标记(12)与第二辅助 掩模标记(22)重合并用相机8)确认该状态。在进 行掩模(1、2)相对于基板(S)的校