一种双面阻焊自动曝光机

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114675498 A (43)申请公布日 2022.06.28 (21)申请号 202210145046.7 (22)申请日 2022.02.17 (71)申请人 深圳市欣光辉科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市宝安区新桥街 道新二社区南岭路21号E栋三层 (72)发明人 代晓龙　 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) H05K 3/00 (2006.01) H05K 3/28 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 一种双面阻焊自动曝光机 (57)摘要 本发明公开了一种双面阻焊自动曝光机，属 于PCB制造技术领域，包括主机架以及导向槽，检 测相机组件装配于主机架上，载体基板两端滑动 装配于导向槽中，下基座定位滑动装配于载体基 板一侧，下基座中装配有下菲林片，盖板件转动 装配于载体基板一端，盖板件中装配有上菲林 片，固定框板弹性滑动装配于载体基板和下基座 之间，固定框板中布设有承托板，真空阀头阵列 布设于承托板一侧，本发明通过滑动布设于导向 槽中的载体基板以及活动装配于载体基板一侧 的调位机架，能够对双面阻焊的基板进行快速对 位以及菲林片吸附，避免了常规曝光设备对PCB A 基板的挤压定位，防止因板材翘曲造成的曝光漏 8 印，提升了曝光上料的效率，提高了PCB板的产 9 4 5 能。 7 6 4 1 1 N C CN 114675498 A