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PCT发明

防反射结构体、带防反射结构体的基材、相机模块和信息终端设备

2023-05-09 10:44:14 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080065634.9
  • 公开（公告）日：2024-07-02
  • 公开（公告）号：CN114424091A
  • 申请人：迪睿合株式会社
摘要：本发明的课题是提供防反射性能和透明性优异、减少了表面褶皱的产生的防反射结构体。为了解决上述课题，本发明提供一种防反射结构体(10)，其至少具备粘接层(20)和形成于该粘接层(20)上且在两面具有微细凹凸结构的防反射膜(30)，其特征在于，上述粘接层(20)的储能模量E’为25MPa以上，形成于上述防反射膜(30)的两面的微细凹凸结构均具有可见光线的波长以下的凹凸周期P。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114424091 A (43)申请公布日 2022.04.29 (21)申请号 202080065634.9 (74)专利代理机构 北京挚诚信奉知识产权代理 有限公司 11338 (22)申请日 2020.09.23 代理人 严星铁　苗添豪 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2019-177159 2019.09.27 JP G02B 1/118 (2015.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.03.18 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/035799 2020.09.23 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/060275 JA 2021.04.01 (71)申请人 迪睿合株式会社 地址 日本栃木县 (72)发明人 须贺田宏士　田泽洋志　梶谷俊一　 权利要求书1页 说明书12页 附图4页 (54)发明名称 防反射结构体、带防反射结构体的基材、相 机模块和信息终端设备 (57)摘要 本

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