发明

等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法

2023-06-29 07:09:59 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310053555.1
  • 公开(公告)日:2023-06-27
  • 公开(公告)号:CN116332122A
  • 申请人:中国科学院长春应用化学研究所
摘要:本发明属于纳米结构制造技术领域,本发明公开了一种等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物自组装的方法。本发明制备步骤包括:将聚合物刷/毡接枝到基底表面‑清洗‑旋涂光刻胶‑曝光‑显影‑等离子改性‑清洗。其中,通过等离子改性聚合物刷/毡,调节嵌段共聚物与刷/毡之间的界面自由能,从而获取非选择性的基底。该方法易实现,合成简单,是值得推广的获取中性分子刷的方式。同时引导嵌段共聚物进行密度倍增组装,均得到无缺陷长程有序的形貌。相比传统化学图案法减少了修整刻蚀的步骤,制备过程对设备要求较低,制备流程简单易控制,仅需改变曝光剂量和氧等离子改性条件即可引导不同嵌段共聚物进行组装,且获得更高倍率的密度倍增效果。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116332122 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310053555.1 (22)申请日 2023.02.03 (71)申请人 中国科学院长春应用化学研究所 地址 130022 吉林省长春市人民大街5625 号 (72)发明人 季生象 黄广诚 刘亚栋 韩苗苗  (74)专利代理机构 北京睿智保诚专利代理事务 所(普通合伙) 11732 专利代理师 刘清丽 (51)Int.Cl. B82B 3/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) C08F 299/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书13页 附图6页 (54)发明名称 等离子改性3D纳米图案及引导嵌段共聚物 自组装的方法 (57)摘要 本发明属于纳米结构制造技术领域,本发明 公开了一种等离子改性3D纳米图案及引导嵌段 共聚物自组装的方法。本发明制备步骤包括:将 聚合物刷/毡接枝到基底表面‑清洗‑旋涂光刻 胶‑曝光‑显影‑等离子改性‑清洗。其中,通过等 离子改性聚合物刷/毡,调节嵌段共聚物与刷/毡 之间的界面自由能,从而获取非选择性的基底。 该方法易实现,合成简单,是值得推广的获取中 性分子刷的方式。同时引导嵌段共聚物进行密度 倍增组装,均得到无缺陷长程有序的形貌。相比 传统化学图案法减少了修整刻蚀的步骤,制备过 A 程对设备要求较低,制备流程简单易控制,仅需 2 改变

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