发明

一种硅环磨抛设备2025

2024-04-21 07:23:04 发布于四川 4
  • 申请专利号:CN202410208981.2
  • 公开(公告)日:2025-05-16
  • 公开(公告)号:CN117884963A
  • 申请人:浙江盾源聚芯半导体科技有限公司
摘要:本发明涉及抛光设备技术领域,具体涉及一种硅环磨抛设备,包括:转台,用于托载硅环,且能够绕第一轴线旋转,所述第一轴线为转台的中轴线;压头,能够相对于转台沿第一轴线方向活动以将硅环压紧在转台上,硅环在被压紧状态下,转台和压头分别遮盖硅环的内圈两端以使硅环的内圈被合围形成封闭的导流腔;所述压头包括用于贴合硅环端面的压紧面;流道,设于压头用于供抛光液流通,所述流道至少部分敞开于压紧面以构成冷却段;转轴,沿第一轴线穿设在压头上,所述压头能够相对于转轴绕第一轴线旋转;所述转轴内部中空设置形成进液通道;通过对流道的设计,配合压头和转台,抛光液可以对硅环的内圈和顶壁起到冷却降温作用。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117884963 A (43)申请公布日 2024.04.16 (21)申请号 202410208981.2 (22)申请日 2024.02.26 (71)申请人 浙江盾源聚芯半导体科技有限公司 地址 324200 浙江省衢州市常山县金川街 道恒升路25号101室 (72)发明人 祝建敏 郑小松 祝军  (74)专利代理机构 杭州信与义专利代理有限公 司 33450 专利代理师 马育妙 (51)Int.Cl. B24B 5/04 (2006.01) B24B 55/02 (2006.01) B24B 57/02 (2006.01) B24B 41/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种硅环磨抛设备 (57)摘要 本发明涉及抛光设备技术领域,具体涉及一 种硅环磨抛设备,包括:转台,用于托载硅环,且 能够绕第一轴线旋转,所述第一轴线为转台的中 轴线;压头,能够相对于转台沿第一轴线方向活 动以将硅环压紧在转台上,硅环在被压紧状态 下,转台和压头分别遮盖硅环的内圈两端以使硅 环的内圈被合围形成封闭的导流腔;所述压头包 括用于贴合硅环端面的压紧面;流道,设于压头 用于供抛光液流通,所述流道至少部分敞开于压 紧面以构成冷却段;转轴,沿第一轴线穿设在压 头上,所述压头能够相对于转轴绕第一轴线旋 转;所述转轴内部中空设置形成进液通道;通过 A 对流道的设

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