一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光直写打印方法及装置

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116572533 A (43)申请公布日 2023.08.11 (21)申请号 202310259330.1 (22)申请日 2023.03.13 (71)申请人 之江实验室 地址 311100 浙江省杭州市余杭区中泰街 道之江实验室南湖总部 申请人 浙江大学 (72)发明人 汤孟博　匡翠方　杨臻垚　王洪庆　 詹兰馨　刘旭　李海峰　 (74)专利代理机构 杭州天勤知识产权代理有限 公司 33224 专利代理师 曹兆霞 (51)Int.Cl. B29C 64/386 (2017.01) B29C 64/268 (2017.01) B33Y 50/00 (2015.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光 直写打印方法及装置 (57)摘要 本发明公开了一种基于转镜的三维阵列打 印系统的激光直写打印方法，包括 ：基于最大刻 写长度刻写的直线中选取粗细均匀且连续的线 段，作为转镜的有效刻写长度；根据预设打印参 数和有效刻写长度，计算获得打印平台的单次移 动距离；根据预设打印参数，有效刻写长度以及 单次移动距离，生成一个或多个连续垂直分布于 转镜扫描平面的二维刻写数据文件；根据预设的 刻写功率，二维刻写数据文件输入至三维阵列打 印系统中，通过刻写激光对打印平台上的刻写材 料进行循环输出，获得