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PCT发明

缓冲室及具备缓冲室的AM系统

2023-06-25 07:09:55 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202180070756.1
  • 公开（公告）日：2023-06-23
  • 公开（公告）号：CN116323218A
  • 申请人：株式会社荏原制作所
摘要：在AM系统中，构建粉末材料等微粒不会从能够存在微粒的区域飞散到其他区域的环境。根据一个实施方式，提供一种用于制造造型物的AM系统，该AM系统具有：造型室，该造型室配置有AM装置；以及缓冲室，该缓冲室与所述造型室相连，所述缓冲室具有：入口，该入口与周围环境相连；出口，该出口与所述造型室相连；格栅地板；以及排气口，所述AM系统具有：第一门，该第一门能够对所述缓冲室的所述入口进行开闭；以及第二门，该第二门能够对所述缓冲室的所述出口进行开闭。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116323218 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202180070756.1 (74)专利代理机构 上海华诚知识产权代理有限 公司 31300 (22)申请日 2021.09.14 专利代理师 张丽颖 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2020-174652 2020.10.16 JP B33Y 10/00 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.04.14 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2021/033680 2021.09.14 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/080064 JA 2022.04.21 (71)申请人 株式会社荏原制作所 地址 日本国东京都大田区羽田旭町11番1 号 (72)发明人 篠崎弘行　浅井润树　向山佳孝　 权利要求书1页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 缓冲室及具备缓冲室的AM系统 (57)摘要

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