导电性二维粒子及其制造方法
- 申请专利号:CN202180053101.3
- 公开(公告)日:2023-05-09
- 公开(公告)号:CN116096669A
- 申请人:株式会社村田制作所
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116096669 A (43)申请公布日 2023.05.09 (21)申请号 202180053101.3 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2021.08.27 专利代理师 韩聪 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2020-147676 2020.09.02 JP B82Y 30/00 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.02.27 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2021/031565 2021.08.27 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/050191 JA 2022.03.10 (71)申请人 株式会社村田制作所 地址 日本京都府 (72)发明人 坂本宙树 小柳雅史 柳町章麿 权利要求书1页 说明书15页 附图5页 (54)发明名称 导电性二维粒子及其制造方法 (57)摘要 提供一种导电性二维粒子及其制造方法,氯 与溴的含