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一种膜系结构及其制作方法2025

2023-11-05 07:38:43 发布于四川 0

申请专利号：CN202210449056.X
公开（公告）日：2025-08-12
公开（公告）号：CN116990887A
申请人：光驰科技（上海）有限公司

摘要：本发明公开了一种膜系结构及其制作方法。该膜系结构为：Sub|((HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d)^e(HL)^a(2H)^b(LH)^c fL|Air；其中，Sub为基板，Air为出射介质空气，H为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料，L为1/4中心波长光学厚度的低折射率材料，a、b、c、d、e、f均为正整数；其中，(HL)^a表示依次沉积H膜层和L膜层并重复a次；(2H)^b表示依次沉积H膜层和H膜层并重复b次；(LH)^c表示依次沉积L膜层和H膜层并重复c次；(2L)^d表示依次沉积L膜层和L膜层并重复d次；((HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d)^e表示膜堆(HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d重复e次；fL表示L膜层重复f次。本发明实施例的技术方案能够在修正膜厚均匀性的同时，还可以用来修正高低折射率材料的光学厚度相对比例，具有准确和高效的特点。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116990887 A (43)申请公布日 2023.11.03 (21)申请号 202210449056.X C23C 14/06 (2006.01) (22)申请日 2022.04.26 (71)申请人光驰科技（上海）有限公司地址 200436 上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267，297号 (72)发明人李卫涛　 (74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司 11332 专利代理师康欢欢 (51)Int.Cl. G02B 1/10 (2015.01) G02B 1/115 (2015.01) C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/08 (2006.01) C23C 14/10 (2006.01) 权利要求书1页说明书5页附图1页 (54)发明名称一种膜系结构及其制作方法 (57)摘要本发明公开了一种膜系结构及其制作方法。该膜系结构为：Sub|((HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^ d)^e(HL)^a (2H)^b(LH)^c fL|Air；其中，Sub为基板，Air为出射介质空气，H为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料，L为1/4中心波长光学厚度的低折射率材料，a、b、c、d、e、f均为正整数；其中，(HL)^a表示依次沉积H膜层和L膜层并重复a 次；(

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