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光源装置及投影仪2024

2024-04-21 07:43:52 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311351944.9
  • 公开(公告)日:2024-04-19
  • 公开(公告)号:CN117908319A
  • 申请人:精工爱普生株式会社
摘要:光源装置。能够抑制颜色不均。光源装置具有:射出第1波段的第1光束的第1光源部;射出第2波段的第2光束的第2光源部;射出第3波段的第3光束的第3光源部;扩大第1光束的光束宽度并且合成第1光束和第2光束而生成第1合成光束的第1光合成元件;以及合成第1合成光束和第3光束而生成第2合成光束的第2光合成元件。第1光束的光束宽度与第2光束的光束宽度相同或者比第2光束的光束宽度小,第1光束的光束宽度比第3光束的光束宽度小。第1光合成元件使从第1光合成元件射出的第1光束的光束宽度比入射到第1光合成元件的第1光束的光束宽度大,以使其接近第2光束的光束宽度和第3光束的光束宽度中的至少一方。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117908319 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202311351944.9 (22)申请日 2023.10.18 (30)优先权数据 2022-167782 2022.10.19 JP (71)申请人 精工爱普生株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 安松航  (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 专利代理师 李庆泽 邓毅 (51)Int.Cl. G03B 21/20 (2006.01) G02B 27/10 (2006.01) 权利要求书3页 说明书19页 附图8页 (54)发明名称 光源装置及投影仪 (57)摘要 光源装置。能够抑制颜色不均。光源装置具 有:射出第1波段的第1光束的第1光源部;射出第 2波段的第2光束的第2光源部;射出第3波段的第 3光束的第3光源部;扩大第1光束的光束宽度并 且合成第1光束和第2光束而生成第1合成光束的 第1光合成元件;以及合成第1合成光束和第3光 束而生成第2合成光束的第2光合成元件。第1光 束的光束宽度与第2光束的光束宽度相同或者比 第2光束的光束宽度小,第1光束的光束宽度比第 3光束的光束宽度小。第1光合成元件使从第1光 合成元件射出的第1光束的光束宽度比入射到第 1光合成元件的第1光束的光束宽度大,以使其接 A 近第2光束的光束宽度和第3光束的光束宽度中 9 的至少一方。 1 3 8 0

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