像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112782940 A (43)申请公布日 2021.05.11 (21)申请号 202011231381.6 (22)申请日 2020.11.06 (30)优先权数据 2019-203508 2019.11.08 JP (71)申请人 佳能株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 齐藤悠树　 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 代理人 程晨 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G01M 11/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图7页 (54)发明名称 像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置 (57)摘要 本公开涉及像差测量方法、物品制造方法以 及曝光装置。像差测定方法包括：通过在投影光 学系统的光轴方向上的多个位置处测量透射配 置于所述投影光学系统的物体侧的物体侧标记、 所述投影光学系统以及配置于所述投影光学系 统的像侧的像侧标记的光的光量，从而获取表示 所述光轴方向上的位置与所述光量的关系的光 量分布的工序；求出表示所述光量分布中的以所 述投影光学系统的焦点位置为对称轴的非对称 性的特征量的工序；以及根据所述特征量来决定 所述投影光学系统的像差量的工序。 A 0 4 9 2 8 7 2 1 1 N C CN 112782940 A 权　利　要　求　书