一种大面积高耐用性超疏水表面结构的制备方法及其产品

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112028010 A (43)申请公布日 2020.12.04 (21)申请号 202010899353.5 (22)申请日 2020.08.31 (71)申请人 华中科技大学 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路 1037号 (72)发明人 史铁林　林建斌　廖广兰　李小平　 孔令贤　罗京　段暕　 (74)专利代理机构 华中科技大学专利中心 42201 代理人 石梦雅　李智 (51)Int.Cl. B81B 7/04 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 一种大面积高耐用性超疏水表面结构的制 备方法及其产品 (57)摘要 本发明属于微纳结构相关技术领域，并具体 公开了一种大面积高耐用性超疏水表面结构的 制备方法及其产品。该方法包括：在基底表面制 备刻蚀掩膜层，并通过刻蚀在基底上制得倒锥形 阵列；对倒锤形阵列进行纳米压印，以此制得锥 形掩膜，然后进行一次倒模，获得倒锥形阵列结 构；构建耐磨层，获得倒锥形模板，利用疏水聚合 物对倒锥形模板进行二次倒模，制得锥形阵列结 构；对锥形阵列结构的表面进行研磨，以得到锥 台阵列结构。本发明采用一次倒模、构建耐磨层 的方式制备大面积倒锥形模板，后续利用疏水聚 A 合物进行二次倒模得到大面积的超疏水表面，无 0 需任何低表面能物质修饰，最后通过研磨进行微