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发明

磁头和磁记录装置

2023-05-20 11:10:45 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202110858621.3
  • 公开（公告）日：2024-09-17
  • 公开（公告）号：CN114927147A
  • 申请人：株式会社东芝|||东芝电子元件及存储装置株式会社
摘要：本发明提供能提高记录密度的磁头和磁记录装置。根据实施方式，磁头包括第1、第2磁极、以及设置于第1、第2磁极之间的层叠体。层叠体包括第1磁性层、设置于第1磁性层与第2磁极之间的第2磁性层、设置于第1磁性层与第2磁性层之间的第1非磁性层、设置于第2磁性层与第2磁极之间的第2非磁性层、以及设置于第1磁极与第1磁性层之间的第3非磁性层。第1磁性层包括第1元素，该第1元素包括Fe、Co和Ni的至少一个。第2磁性层包括第1元素和第2元素，该第2元素包括从由Cr、V、Mn、Ti和Sc构成的群中选择的至少一个。第1磁性层不包括第2元素。第1磁性层的第1厚度为第2磁性层的第2厚度的0.25倍以上且4倍以下。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114927147 A (43)申请公布日 2022.08.19 (21)申请号 202110858621.3 G11B 5/48 (2006.01) H01L 29/82 (2006.01) (22)申请日 2021.07.28 (30)优先权数据 2021-020441 2021.02.12 JP (71)申请人 株式会社 东芝 地址 日本东京都 申请人 东芝电子元件及存储装置株式会社 (72)发明人 中川裕治　成田直幸　高岸雅幸　 前田知幸　永泽鹤美　岩崎仁志　 首藤浩文　 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 专利代理师 张谟煜　段承恩 (51)Int.Cl. G11B 5/187 (2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 附图10页 (54)发明名称 磁头和磁记录装置 (57)摘要 本发明提供能提高记录密度的磁头和磁记 录装置。根据实施方式，磁头包括第1、第2磁极、 以及设置于第1、第2磁极之间的层叠体。层叠体 包括第1磁性层、设置于第1磁性层与第2磁极之 间的第2磁性层、设置于第1磁性层与第2磁性层 之间的第1非磁性层、设置于第2磁性层与第2磁 极之间的第2非磁性层、以及设置于第1磁极与

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