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PCT发明

利用具有可控几何形状和组成的清洁衬底进行刻蚀支撑件清洁

2023-06-11 12:53:33 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN201980073815.3
  • 公开（公告）日：2024-10-11
  • 公开（公告）号：CN112955822A
  • 申请人：ASML控股股份有限公司
摘要：从EUV或DUV光刻系统中的诸如掩模板平台或晶片平台之类的刻蚀支撑件的工作表面去除污染物的装置和方法，其中将清洁衬底抵靠工作表面按压，清洁衬底设置有由所选材料制成的涂层和配置，使得污染物从工作表面转移到涂层。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112955822 A (43)申请公布日 2021.06.11 (21)申请号 201980073815.3 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2019.10.31 代理人 董莘 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/757,837 2018.11.09 US G03F 7/20 (2006.01) 62/912,971 2019.10.09 US (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.05.08 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/079934 2019.10.31 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/094517 EN 2020.05.14 (71)申请人 ASML控股股份有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 K ·M ·利维　A ·D ·哈拉尔卡　 权利要求书3页 说明书12页 附图9页 (54)发明名称 利用具有可控几何形状和组成的清洁衬底 进行刻

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