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PCT发明

同时获取平行对准标记的设备和方法

2023-06-16 07:16:25 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN201980084736.2
  • 公开（公告）日：2024-08-20
  • 公开（公告）号：CN113196180A
  • 申请人：ASML控股股份有限公司|||ASML荷兰有限公司
摘要：一种用于确定衬底对准的设备和方法，其中利用空间相干辐射同时照射多个对准标记，并且并行地收集来自被照射标记的光以获得关于标记的位置和标记内的变形的信息。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113196180 A (43)申请公布日 2021.07.30 (21)申请号 201980084736.2 亚历山德罗 ·波洛　 K ·U ·索博列夫　S ·R ·胡伊斯曼　 (22)申请日 2019.12.12 J ·L ·克勒泽　 (30)优先权数据 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 62/782,715 2018.12.20 US 公司 11021 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 代理人 张启程 2021.06.18 (51)Int.Cl. (86)PCT国际申请的申请数据 G03F 9/00 (2006.01) PCT/EP2019/084853 2019.12.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/126810 EN 2020.06.

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