一种模斑变换器

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112882154 A (43)申请公布日 2021.06.01 (21)申请号 202110281584.4 (22)申请日 2021.03.16 (71)申请人 武汉华工正源光子技术有限公司 地址 430223 湖北省武汉市东湖高新技术 开发区华中科技大学科技园正源光子 产业园 (72)发明人 李春生　周秋桂　胡云　石文虎　 张天明　 (74)专利代理机构 北京汇泽知识产权代理有限 公司 11228 代理人 代婵 (51)Int.Cl. G02B 6/14 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图4页 (54)发明名称 一种模斑变换器 (57)摘要 本发明涉及一种模斑变换器，包括衬底，衬 底上从下到上依次设有下包层、覆盖层，下包层 的上端从下到上依次设有底层倒锥形波导、第一 层波导结构、第二层波导结构，底层倒锥形波导、 第一层波导结构、第二层波导结构位于覆盖层 内，底层倒锥形波导与第一层波导结构的第一层 锥形波导组成第一光场过渡转换结构，第一层波 导结构的第一层倒锥形波导与第二层波导结构 的第二层锥形波导组成第二光场过渡转换结构， 第二层波导结构的第二层倒锥形波导与覆盖层 组成模斑扩大结构。本发明采用底层倒锥形波导 和两组双锥形波导结构实现光场的上拉效果，减 A 小衬底硅材料对模斑形状的影响，并通过顶部倒