基于异步状态机实现的光刻机对准控制方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117724308 A (43)申请公布日 2024.03.19 (21)申请号 202311817904.9 (22)申请日 2023.12.26 (71)申请人 新毅东（上海）科技有限公司 地址 201705 上海市青浦区华新镇北青公 路3888号20幢 (72)发明人 张琪　符友银　 (74)专利代理机构 北京唐颂永信知识产权代理 有限公司 11755 专利代理师 刘伟 (51)Int.Cl. G03F 9/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 基于异步状态机实现的光刻机对准控制方 法 (57)摘要 提供了一种基于异步状态机实现的光刻机 对准控制方法。该基于异步状态机实现的光刻机 对准控制方法包括：响应于光刻机对准流程开 始，启动异步状态机；基于所述异步状态机并行 执行光罩版工作台的光罩版加载和硅片工作台 的硅片加载；以及，所述异步状态机同步所述光 罩版工作台的光罩版加载和所述硅片工作台的 硅片加载的完成，并触发顺序执行光罩版精对 准、硅片调平调焦和硅片对准。这样，通过异步状 态机解决光刻机对准控制流程中的不同状态变 化不同步的问题，同时实现部分状态并发同步控 A 制，提升了对准效率、使用灵活性和扩展性。 8 0 3 4 2 7 7 1 1 N C CN 117724308 A 权　利　要　求　书