光刻机运动台反力抵消装置

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112180692 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202011169800.8 (22)申请日 2020.10.28 (71)申请人 上海图双精密装备有限公司 地址 200000 上海市青浦区久远路157号1 幢1层东侧 (72)发明人 钟敏　 (74)专利代理机构 上海汇齐专利代理事务所 (普通合伙) 31364 代理人 朱明福 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 光刻机运动台反力抵消装置 (57)摘要 本发明公开了光刻机运动台反力抵消装置， 包括底座，所述底座的上表面固定连接有光刻机 主体，所述光刻机主体的正面设置有控制主机， 所述光刻机主体的正面通过合页活动连接有开 合门，所述开合门的正面设置有观察窗，所述光 刻机主体的内底壁固定连接有减震器，所述减震 器的表面设置有运行平台，所述运行平台的上表 面设置有硅片台，所述硅片台的上表面设置有硅 片。该光刻机运动台反力抵消装置，通过设置减 震器，便于硅片台在运行平台上运行时产生的作 用力能够通过减震器进行减震，通过设置压力弹 簧和减力凸起，便于运行平台在运作时产生的作 A 用力能够通过减力凸起和压力弹簧进行抵消，从 2 而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。 9 6 0 8 1 2 1 1 N C CN 112180692