发明

一种多孔薄膜吸气剂结构及其制备方法

2023-07-05 07:08:54 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202111091412.7
  • 公开(公告)日:2024-11-08
  • 公开(公告)号:CN113772618A
  • 申请人:安徽光智科技有限公司
摘要:本发明公开了多孔薄膜吸气剂结构,包括晶圆和薄膜吸气剂,晶圆上表面具有凹槽结构,凹槽结构的内壁均为多孔结构,薄膜吸气剂覆盖多孔结构。还公开了该结构的制备方法,采用干法或湿法刻蚀联合金颗粒辅助刻蚀三维薄膜吸气剂结构,在制备的凹槽结构上制备多孔结构以增大薄膜吸气剂沉积面积及沉积体量,从而有效增加薄膜吸气剂的吸气性能和使用寿命;通过蒸镀‑剥离工艺沉积的金膜在高温快速退火的工艺条件下可在凹槽的侧壁和基底形成分布均匀的金颗粒,利用退火后的金颗粒进行刻蚀工艺,在侧壁刻蚀出均匀分布的多孔结构,进而增大吸气剂薄膜和侧壁、底部衬底的粘附性,避免发生吸气剂脱落、损坏器件等现象。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113772618 A (43)申请公布日 2021.12.10 (21)申请号 202111091412.7 (22)申请日 2021.09.17 (71)申请人 安徽光智科技有限公司 地址 239064 安徽省滁州市琅琊经济开发 区南京路100号 (72)发明人 赵龙 杨晓杰 李海涛 姚浩强  高玉波 赵雪城  (74)专利代理机构 北京天盾知识产权代理有限 公司 11421 代理人 朱伟雄 (51)Int.Cl. B81B 7/00 (2006.01) B81B 7/02 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图3页 (54)发明名称 一种多孔薄膜吸气剂结构及其制备方法 (57)摘要 本发明公开了多孔薄膜吸气剂结构,包括晶 圆和薄膜吸气剂,晶圆上表面具有凹槽结构,凹 槽结构的内壁均为多孔结构,薄膜吸气剂覆盖多 孔结构。还公开了该结构的制备方法,采用干法 或湿法刻蚀联合金颗粒辅助刻蚀三维薄膜吸气 剂结构,在制备的凹槽结构上制备多孔结构以增 大薄膜吸气剂沉积面积及沉积体量,从而有效增 加薄膜吸气剂的吸气性能和使用寿命;通过蒸 镀‑剥离工艺沉积的金膜在高温快速退火的工艺 条件下可在凹槽的侧壁和基底形成分布均匀的 金颗粒,利用退火后的金颗粒进行刻蚀工艺,在 侧壁刻蚀出均匀分布的多孔结构,进而增大吸气 A 剂薄膜和侧壁、底部

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