发明

两级全差分运算放大器的版图设计方法和版图布局结构

2023-08-25 07:28:14 发布于四川 107
  • 申请专利号:CN202310591718.1
  • 公开(公告)日:2024-02-06
  • 公开(公告)号:CN116629186A
  • 申请人:广东匠芯创科技有限公司
摘要:本发明公开了一种两级全差分运算放大器的版图设计方法和版图布局结构。其中该版图布局结构包括:从左到右依次并列排列的第一版图区、第二版图区、第三版图区和第四版图区;第一版图区包括:从上至下依次排列的第一共模电容阵列版图区、第一电阻阵列版图区和第一补偿电容阵列版图区;第二版图区包括:从上至下依次排列的电流镜版图区和偏置电路版图区;第三版图区包括:从上至下依次排列的差分对管版图区、共模反馈管版图区和第一级负载管版图区;第四版图区包括:从上至下依次排列的第二共模电容阵列版图区、第二电阻阵列版图区和第二补偿电容阵列版图区。该版图布局结构信号流向清晰,由寄生参数引起的电路性能损耗较小,后仿真通过率较高。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116629186 A (43)申请公布日 2023.08.22 (21)申请号 202310591718.1 (22)申请日 2023.05.23 (71)申请人 广东匠芯创科技有限公司 地址 519000 广东省珠海市横琴新区环岛 北路2515号2单元1901办公 (72)发明人 秦玲玉 原顺  (74)专利代理机构 广州嘉权专利商标事务所有 限公司 44205 专利代理师 黄英杰 (51)Int.Cl. G06F 30/392 (2020.01) H03F 3/45 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图4页 (54)发明名称 两级全差分运算放大器的版图设计方法和 版图布局结构 (57)摘要 本发明公开了一种两级全差分运算放大器 的版图设计方法和版图布局结构。其中该版图布 局结构包括:从左到右依次并列排列的第一版图 区、第二版图区、第三版图区和第四版图区;第一 版图区包括:从上至下依次排列的第一共模电容 阵列版图区、第一电阻阵列版图区和第一补偿电 容阵列版图区 ;第二版图区包括 :从上至下依次 排列的电流镜版图区和偏置电路版图区;第三版 图区包括 :从上至下依次排列的差分对管版图 区、共模反馈管版图区和第一级负载管版图区 ; 第四版图区包括:从上至下依次排列的第二共模 A 电容阵列版图区、第二电阻阵列版图区和第二补 6 偿电容阵列版图区。该版图布局结构信号流向清 8 1 9 晰,由寄

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