一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置和光刻机

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114815511 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202110130278.0 (22)申请日 2021.01.29 (71)申请人 中国科学院微电子研究所 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 申请人 真芯（北京）半导体有限责任公司 (72)发明人 金成昱　梁贤石　林锺吉　金在植　 张成根　丁明正　刘强　贺晓彬　 白国斌　刘金彪　 (74)专利代理机构 北京辰权知识产权代理有限 公司 11619 专利代理师 刘广达 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 (54)发明名称 一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置 和光刻机 (57)摘要 本发明涉及一种用于调节狭缝式曝光带均 匀性的装置和光刻机，包括：校正模块，其位于狭 缝式曝光带测量区域与狭缝式曝光带的相反侧， 其中，狭缝式曝光带测量区域位于狭缝式曝光带 的两侧；在所述校正模块和所述狭缝式曝光带测 量区域之间，具有狭缝式曝光带控制区域，滤光 板可移动至所述狭缝式曝光带控制区域中；其 中，校正模块和滤光板在朝向所述曝光狭缝的方 向上都是可移动的。通过可移动的校正模块和滤 光板，控制滤光板在狭缝式曝光带控制区域移动 改变光强和焦距，从而改善狭缝均匀性，最小化 A 由于狭缝均匀性改变而产生的问题。通过对狭缝 1 式曝光带均匀性的调整，能够精