发明

一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法

2023-07-23 17:34:24 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310510158.2
  • 公开(公告)日:2025-05-16
  • 公开(公告)号:CN116462418A
  • 申请人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心|||西南科技大学
摘要:本发明公开了一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法,包括:将熔石英元件在乙醇中超声清洗,去除掉表面的灰尘和油渍,然后将熔石英元件置于去离子水中超声清洗;将清洗后的熔石英元件置于平行板放电蚀刻器中进行反应离子刻蚀,刻蚀后采用无机酸对元件表面进行清洗,然后用去离子水清洗并晾干;将清洗好的熔石英元件置于高温退火炉中,进行高温退火处理;将高温退火处理之后的熔石英元件置于H2O2刻蚀器中进行二次刻蚀;将刻蚀后的熔石英元件进行去离子水和乙醇清洗。本发明通过组合刻蚀的方法较好的修复了熔石英元件表面的缺陷同时改善表面质量,从而有效提高了熔石英元件表面的激光损伤阈值。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116462418 A (43)申请公布日 2023.07.21 (21)申请号 202310510158.2 C03B 25/00 (2006.01) (22)申请日 2023.05.08 (71)申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究 中心 地址 621000 四川省绵阳市科学城绵山路 64号 申请人 西南科技大学 (72)发明人 孙来喜 何洪途 邹蕊矫 刘新祺  余家欣 郑天然 王方 李青山  (74)专利代理机构 绵阳远卓弘睿知识产权代理 事务所(普通合伙) 51371 专利代理师 张忠庆 (51)Int.Cl. C03C 15/00 (2006.01) C03C 23/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书8页 附图5页 (54)发明名称 一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表 面联合处理方法 (57)摘要 本发明公开了一种提升抗激光损伤能力的 熔石英元件表面联合处理方法,包括 :将熔石英 元件在乙醇中超声清洗,去除掉表面的灰尘和油 渍,然后将熔石英元件置于去离子水中超声清 洗;将清洗后的熔石英元件置于平行板放电蚀刻 器中进行反应离子刻蚀,刻蚀后采用无机酸对元 件表面进行清洗,然后用去离子水清洗并晾干; 将清洗好的熔石英元件置于高温退火炉中,进行 高温退火处理;将高温退火处理之后

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