发明

光学防伪元件及其设计方法、防伪产品

2024-03-31 07:00:49 发布于四川 5
  • 申请专利号:CN202110449712.1
  • 公开(公告)日:2024-03-29
  • 公开(公告)号:CN115230363A
  • 申请人:中钞特种防伪科技有限公司|||中国印钞造币集团有限公司
摘要:本发明实施例提供一种光学防伪元件及其设计方法、防伪产品,属于防伪技术领域。所述光学防伪元件具有大致平顺的漫反射性曲面,入射光被所述漫反射性曲面反射后可在不小于预设观察角度集合Ωv的范围内形成大致均匀的亮度分布;所述漫反射性曲面包括被修饰的曲面区域和未被修饰的曲面区域,所述被修饰的曲面区域和所述未被修饰的曲面区域具有不同的反射特性,其中,所述被修饰的曲面区域与动画帧的图案区域相对应;在所述漫反射性曲面被所述入射光照射时,所述被修饰的曲面区域共同呈现为动感特征的图案,所述未被修饰的曲面区域共同呈现为动感特征的背景。其制造工艺简单且可灵活实现颜色和/或明暗对比等的动感特征。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115230363 A (43)申请公布日 2022.10.25 (21)申请号 202110449712.1 (22)申请日 2021.04.25 (71)申请人 中钞特种防伪科技有限公司 地址 100070 北京市丰台区科学城星火路6 号 申请人 中国印钞造币集团有限公司 (72)发明人 孙凯 朱军  (74)专利代理机构 北京润平知识产权代理有限 公司 11283 专利代理师 肖冰滨 王晓晓 (51)Int.Cl. B42D 25/30 (2014.01) 权利要求书3页 说明书15页 附图5页 (54)发明名称 光学防伪元件及其设计方法、防伪产品 (57)摘要 本发明实施例提供一种光学防伪元件及其 设计方法、防伪产品,属于防伪技术领域。所述光 学防伪元件具有大致平顺的漫反射性曲面,入射 光被所述漫反射性曲面反射后可在不小于预设 观察角度集合Ωv的范围内形成大致均匀的亮度 分布;所述漫反射性曲面包括被修饰的曲面区域 和未被修饰的曲面区域,所述被修饰的曲面区域 和所述未被修饰的曲面区域具有不同的反射特 性,其中,所述被修饰的曲面区域与动画帧的图 案区域相对应;在所述漫反射性曲面被所述入射 光照射时,所述被修饰的曲面区域共同呈现为动 感特征的图案,所述未被修饰的曲面区域共同呈 A 现为动感特征的背景。其制造工艺简单且可灵活 3 实现颜色和/或明暗对比等的动感特征。 6 3 0 3 2 5 1 1

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