发明

一种RF MEMS开关的原位薄膜封装方法

2023-06-11 12:46:16 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202110108281.2
  • 公开(公告)日:2024-05-24
  • 公开(公告)号:CN112919405A
  • 申请人:中北大学|||南通高等研究院
摘要:本发明属于射频微电子机械系统封装技术领域,具体涉及一种RF MEMS开关的原位薄膜封装方法,包括下列步骤:提供一未释放牺牲层的RF MEMS开关晶圆,在衬底上完成信号线和悬臂梁的结构的制作;对晶圆进行第一次匀胶、光刻、显影工艺;在晶圆上沉积一层薄膜;对晶圆进行第二次匀胶、光刻工艺,并留出释放孔位置;对释放孔位置进行刻蚀工艺;进行氧气等离子体工艺;再次沉积一层薄膜。本发明通过在未释放晶圆上,通过两次匀胶、两次光刻、两次镀膜工艺实现开关的原位薄膜封装工艺,并且本发明采用氩气等离子实现释放孔的刻蚀,采用氧等离子体实现牺牲层的释放,能够保证开关的射频性能,同时提高开关的工作可靠性。本发明用于RF MEMS开关的原位薄膜封装。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112919405 A (43)申请公布日 2021.06.08 (21)申请号 202110108281.2 (22)申请日 2021.01.27 (71)申请人 中北大学南通智能光机电研究院 地址 226000 江苏省南通市中央创新区紫 琅科技城W-9号楼 (72)发明人 王俊强 曹钎龙 李孟委 吴倩楠  余建刚  (74)专利代理机构 太原荣信德知识产权代理事 务所(特殊普通合伙) 14119 代理人 杨凯 连慧敏 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) H01H 49/00 (2006.01) H01H 59/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 (54)发明名称 一种RF MEMS开关的原位薄膜封装方法 (57)摘要 本发明属于射频微电子机械系统封装技术 领域,具体涉及一种RF MEMS开关的原位薄膜封 装方法,包括下列步骤:提供一未释放牺牲层的 RF MEMS开关晶圆,在衬底上完成信号线和悬臂 梁的结构的制作;对晶圆进行第一次匀胶、光刻、 显影工艺;在晶圆上沉积一层薄膜;对晶圆进行 第二次匀胶、光刻工艺,并留出释放孔位置;对释 放孔位置进行刻蚀工艺;进行氧气等离子体工 艺;再次沉积一层薄膜。本发明通过在未释放晶 圆上,通过两次匀胶、两次光刻、两次镀膜工艺实 现开关的原位薄膜封装工艺,并且本发明采用氩 气等离子

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