PCT发明

量测方法及其装置

2023-06-14 13:09:46 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN201980061872.X
  • 公开(公告)日:2024-11-08
  • 公开(公告)号:CN113168103A
  • 申请人:ASML荷兰有限公司
摘要:一种用于测量制造工艺的参数的方法,包括:利用辐射照射目标,检测来自目标的经散射的辐射,以及从所检测的辐射的不对称性来确定感兴趣的参数。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113168103 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980061872.X (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2019.09.19 代理人 董莘 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/733,490 2018.09.19 US G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.03.19 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/075143 2019.09.19 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/058388 EN 2020.03.26 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 A ·J ·登博夫 K ·博哈塔查里亚  森崎健史 S ·G ·J ·马斯杰森  权利要求书1页 说明书3页 附图3页 (54)发明名称 量测方法及其装置 (57)摘要

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