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发明

一种提高波前校正精度的方法及其系统

2023-05-17 10:12:10 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202211544582.0
  • 公开（公告）日：2024-08-06
  • 公开（公告）号：CN116009242A
  • 申请人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要：本发明提供了一种提高波前校正精度的方法及其系统，本发明根据待校正光束波前畸变的空间分布特征选择最优化的入射角度和位置，从而显著提高波前校正精度。本发明首先在待校正光束正入射到变形镜的条件下，利用波前传感器测量变形镜的面形响应函数和待校正光束像差，然后利用计算机控制器对正入射条件下的面形响应函数和波前畸变数据进行分析计算，得到不同入射角度和入射位置情况下变形镜的面形响应函数及该响应函数对波前畸变的校正效果，寻找到最优化的入射角度和入射位置，最后通过调整平台对变形镜进行角度和位置调节后，在新的入射角度和入射位置下进行波前畸变的高精度校正。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116009242 A (43)申请公布日 2023.04.25 (21)申请号 202211544582.0 G01J 9/00 (2006.01) (22)申请日 2022.12.02 (71)申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究 中心 地址 621999 四川省绵阳市绵山路64号 (72)发明人 薛峤　张君　高松　强永发　 傅学军　蒋学君　张晓璐　蒋新颖　 邵婷　龙蛟　吴振海　 肖凯博　 严雄伟　郑建刚　 (74)专利代理机构 北京同辉知识产权代理事务 所(普通合伙) 11357 专利代理师 于晶晶 (51)Int.Cl. G02B 27/00 (2006.01) G02B 26/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种提高波前校正精度的方法及其系统 (57)摘要 本发明提供了一种提高波前校正精度的方 法及其系统，本发明根据待校正光束波前畸变的 空间分布特征选择最优化的入射角度和位置，从 而显著提高波前校正精度。本发明首先在待校正 光束正入射到变形镜的条件下，利用波前传感器 测量变形镜的面形响应函数和待校正光束像差， 然后利用计算机控制器对正入射条件下的面形 响应函数和波前畸变数据进行分析计算，得到不 同入射角度和入射位置情况下变形镜的面

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