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PCT发明

确定处理装置对衬底参数的贡献的方法

2023-06-14 13:10:04 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN201980074333.X
  • 公开（公告）日：2024-08-16
  • 公开（公告）号：CN113168106A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了一种用于确定处理装置对跨第一衬底的参数的特征标识的贡献的方法，方法包括：获得涉及在与检查衬底上的第一特征相关联的第一光瞳图像和与衬底上的第二特征的检查相关联的第二光瞳图像之间的差异的增量图像，其中第一特征和第二特征具有不同的剂量敏感性；响应于被用于形成第一特征和第二特征的剂量的变化来确定差异的改变率；选择在具有高于预定阈值的改变率的增量图像内所包括的多个像素；以及使用确定的改变率和被限于多个像素的增量图像来确定贡献。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113168106 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980074333.X (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2019.09.26 代理人 董莘 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 18205693.7 2018.11.12 EP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.05.11 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/076048 2019.09.26 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/099010 EN 2020.05.22 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 R ·阿努查多　 权利要求书1页 说明书15页 附图4页 (54)发明名称 确定处理装置对衬底参数的贡献的方法 (57)摘要 公开了一种用于确定处理装置对跨第一衬 底的参数的特征标识的

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